(3)鉛晶質玻璃全電熔窯內(nèi)電較的選用
　　
　　目前在鉛玻璃全電熔窯上使用的電較有兩種，一種是氧化錫電較，特點是抗還原能力差，適用于氧化性玻璃；另一種是鉬電較，特點是舒緩反應能力差，適用于還原性玻璃。氧化錫電較非常適用于熔制鉛玻璃。在熔制鉛玻璃的電熔窯中，如果使用鉬電較，會在不同程度上受到氧化，并且玻璃中的氧化鉛被還原，生成金屬鉛沉到熔化池底，這樣設計的電熔窯必須每天在池底放料。
　　
　　(4)我國鉛玻璃電熔窯的現(xiàn)狀及發(fā)展前景
　　
　　我國鉛玻璃電熔窯目前主要使用在以下幾個地方：
　　
　　鉛晶質玻璃器皿。
　　
　　光學玻璃。
　　
　　寶石玻璃。
　　
　　燈飾玻璃。后三者都必須與鉑金坩堝共同使用。
　　
　　(5)我國鉛玻璃電熔窯使用的窯型
　　
　　我國鉛玻璃電熔窯使用的窯型主要有:
　　
　　(a)T型窯:即上大下小的形狀，氧化錫電較垂直安裝在兩邊的臺階上，采用單相供電或三相SCOT供電。
　　
　　(b)矩形窯：上下大小的一樣，氧化錫電較水平安裝在兩邊的池壁上，采用單相供電或三相SCOT供電。
　　
　　(6)我國鉛玻璃電熔窯有待改進的地方
　　
　　我國鉛玻璃電熔窯使用中常出現(xiàn)一些問題有：
　　
　　(a)水套與銀桿斷開，由于設計上或操作的不當，六支銀桿全部斷在氧化錫電較內(nèi)，造成無法供電。
　　
　　(b)氧化錫電較的頭部斷在窯爐內(nèi)。
　　
　　出現(xiàn)上述問題的原因的設計人員沒有掌握鉛玻璃電熔窯的一些特點。
　　
　　3.3.3熔制硼硅酸鹽玻璃的全電熔窯爐
　　
　　硼硅酸鹽玻璃在傳統(tǒng)的火焰池窯熔制過程中，常常會遇到硼的揮發(fā)逸散損失的問題。硼的揮發(fā)不僅使玻璃液不均勻，惡化玻璃質量，而且還白白地損失了價格昂貴的硼原料。因此，國外對減少硼的揮發(fā)問題進行了長期研究。迄今為止，硼的揮發(fā)率在10～15%，如果采用無水硼砂或硼酐作原料，可以降低到5～10%。
　　
　　自從厚料層垂直深層全電熔窯出現(xiàn)后，給高硼硅玻璃的熔化帶來了新方法，大幅度降低了硼的揮發(fā)。采用這種方法使硼的揮發(fā)率降低到1～2%。我國硼硅玻璃的生產(chǎn)基本上采用火焰窯。在高硼硅玻璃系統(tǒng)中，玻璃質量達不到理想程度。